化学气相沉积

物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。PVD方法包括激光烧蚀，在这种方法中，高能激光将材料从目标通过蒸汽喷射到基底上，在基底上沉积材料。另一种PVD方法涉及溅射，其中高能电子轰击表面。

化学气相沉积(CVD)是利用气相生长技术的另一种外延形式。它也被称为气相外延(VPE)，比MBE快得多，因为原子是在流动的气体中传递的，而不是在分子束中。合成……

气相外延的许多方法，这是最常见的外延层生长过程分子束外延通过热加热组成源材料提供纯原子蒸汽流。例如，硅可以放置在一个坩埚或电池硅外延，或…

化学气相沉积，或CVD，属于后一类，一个很好的例子是通过羟基化作用制造二氧化硅玻璃。在羟基化技术中，四氯化硅(SiCl₄)在高温下与蒸汽(H₂O)，导致二氧化硅(SiO₂)…

一种常见的方法被称为化学气相沉积，将基材放置在一个低压室中，其中某些气体混合并加热到650-850°C(1200 - 1550°F)，以形成所需的固体薄膜物质。固体从混合气体中凝结，并在表面均匀地“下雨”。