溅射

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溅射

物理

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雾化

在光谱:溅射原子化
在这一过程被称为溅射…目标。在二次离子质谱(SIMS)方法,使用这些二次离子获得目标信息材料(看到质谱分析:二次离子发射)。相比之下,sputter-initiated RIS (SIRIS)方法利用更大量的中性原子发出的…
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陶瓷

在先进陶瓷:薄膜沉积
另一个PVD方法包括溅射,高能电子轰击目标的表面,去除材料作为蒸汽沉积在隔壁的衬底。心血管疾病是通过载气在挥发性有机金属前体;气体和有机金属反应,生产的陶瓷复合…
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集成电路

在集成电路:物理方法
一种常见的物理方法的溅射。在溅射、晶圆和一个金属源放置在一个真空室,和一种惰性气体,如氩气介绍在低压力。然后电离气体由射频电源和离子加速电动…
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电离

在质谱:直流电弧
…的离子,这一过程被称为溅射。这种电离的一个缺点是宽频带的能量达到离子,从最大的电极电位几乎为零。这样的能量分布的原因是汤姆森的抛物线,但准确的工作需要一个狭窄的能量…
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辐射

在辐射:表面效应
溅射过程中,原子,离子和分子物种在目标表面的材料是驱逐离子束辐照作用下。典型的离子注入能量工作,虽然可以使用任何离子类型,高尚或稀有气体…
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